씨퓨처 2023

미국이 지배하는 시장에서 새로운 총을 개발하는 것은 파괴적인 움직임이지만, 다른 마운트에 사용할 수 있는 독점 무기를 갖는 것은 마케팅 측면에서 플러스가 될 수 있습니다. 이는 국가 제한을 제외하고 모든 제한을 피할 수 있기 때문입니다. 이것은 아마도 Leonardo가 NATO STANAG 4624를 준수하는 30×173mm 포탄을 발사하는 새로운 무기 개발을 시작하도록 이끈 원동력일 것입니다.

X-Gun은 X자 모양의 로터 캠으로 전기적으로 구동됩니다. 캠은 내부 로터에서 움직이며 캠 이동 시스템과 브리치 시스템은 모두 특허를 받았으며 측면에서 이중 공급이 발생합니다. Leonardo 소식통에 따르면 이는 움직이는 부품의 수를 줄여 신뢰성을 높입니다. EDR On-Line은 배럴 디자인이 이제 고정되었으며 이것이 홈이 있는 배럴, 냉각에 유리한 외부 홈이어야 한다는 것을 이해했습니다. 배럴 길이에 대한 데이터는 공개되지 않았습니다. X-Gun의 첫 번째 프로토타입은 현재 제작 중입니다. 배럴은 일반적인 망치질 기술을 사용하여 Leonardo의 La Spezia 공장에서 생산되는 반면 총 자체는 Brescia 공장에서 생산됩니다. 프로토타입은 2023년 후반에 완성될 예정이며 즉시 첫 번째 산업 인증 테스트를 시작할 예정입니다.

X-Gun의 발사 속도는 분당 200발입니다. 정확도를 높이기 위해 저격 모드를 사용할 수 있습니다. 이 모드에서는 탄약이 이미 챔버에 들어가고 구멍이 거의 닫혀 있어 진동과 발사 지연이 줄어들어 정확도가 높아집니다. 이러한 기능 외에도 총에는 "첫 번째 라운드 선택" 기능이 있습니다. 즉, 피더를 변경할 때 이전 유형의 두 라운드를 낭비하지 않고 새로 선택한 탄약을 즉시 발사할 수 있습니다.

특히 Counter-UAS 임무를 고려할 때 정확성이 문제가 되었으며 Leonardo는 특별히 X-Gun을 위한 새로운 탄환을 개발하고 있는 Nexter Arrowtech의 이탈리아 지사인 Simmel Difesa와 팀을 이루었습니다. 이 새로운 30×173mm 탄약은 C-UAS용으로 의도적으로 설계되었으며 정확도와 최종 효과를 모두 극대화하는 것을 목표로 합니다. 정확성은 로마 남부의 Simmel Difesa Colleferro 공장에서 개발된 새로운 독특한 시간 신관에 의해 보장됩니다. 기본 비행 시간은 유도 비접촉 시스템을 사용하여 장전하기 전에 프로그래밍되며, 시간은 발사체가 사격 통제 시스템에 의해 제공되는 목표를 만날 것으로 예상되는 지점과 표준 탄도표에 따른 발사체 속도를 기반으로 합니다. 이는 다른 많은 라운드의 표준이지만 많은 요소가 총구의 실제 속도에 영향을 미칠 수 있으므로 실제 비행 시간이 결정됩니다. 추진제 분말 온도, 총구 마모, 총구 온도 등이 이에 속합니다. 그런 다음 새로운 신관은 실제 발사체 속도를 제공하는 총신의 두 게이트웨이 사이의 시간 간격을 비접촉식 기술로 포착합니다. 이 데이터는 이를 기반으로 폭발 전 비행 시간을 수정하는 "스마트 신관"에 의해 관리됩니다. 데이터를 통해 폭발 지점을 더욱 정밀화하여 정확도를 높이고 사망 확률을 향상시킵니다. 프로그래밍 시스템의 유형과 비행 중 탄약이 폐쇄형 시스템이 된다는 사실로 인해 탄약을 방해하는 것이 거의 불가능합니다. 신관에는 프로그래밍된 공기 폭발 시간 이전에 단단한 목표물에 충격이 가해질 경우 HE 발사체를 폭발시키는 점폭탄 모드 백업도 장착되어 있습니다.

치명성에 관해 말하면, 발사체는 UAS와 같은 비행 표적에 대한 Pk를 최대화하도록 개발되었습니다. 제안된 솔루션은 MF-ABM(Multi Fragmentation-AirBurst Munition)이라고 합니다. 파편화는 고품질 강철 구체로 만들어진 미리 형성된 거대한 정면 파편화와 단단한 강철로 만들어진 원통형 쉘의 측면 자연 파편화로 구성됩니다. 발사체 HE 충전이 시작되면 구체가 각도가 감소된 원뿔을 형성하며 투사됩니다. 데이터는 제공되지 않았습니다. 반면 몸체는 폭발로 생성된 측면 속도가 증가함에 따라 원뿔 모양 패턴으로 앞으로 날아가는 파편을 생성합니다. 발사체의 전진 속도에 추가됩니다. 이렇게 하면 더 넓은 각도 패턴이 생성되어 더 넓은 영역에서 Pk가 증가합니다.